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2018年6月3日至7日，两年一次的International Power Modulator and High Voltage Conference（IPMHVC 2018：国际功率调制与高电压会议）在美国杰克逊召开。国际功率调制与高电压会议是国际脉冲功率调制器、高电压工程及其应用领域最高级别的系列会议，是本领域科技人员交流、学习的盛会，历史悠久，在国际上很有影响力。会议主题涉及电介质、绝缘与击穿，加速器、粒子束和重复频率脉冲源及开关技术，放电与等离子体，高电压设计、设备、检测与诊断、功率电子与电源，固体功率调制器和生物、医学和环境领域应用。IPMHVC会议由IEEE DEIS承办，参会人员300余人，中国代表近40人，清华大学、西安交通大学、华中科技大学、重庆大学、华北电力大学、中科院硅酸盐所和中国电子技术标准化研究院等单位均有专家和研究生出席。我所邵涛、任成燕前往参会。邵涛是该会议的技术委员会成员和签证主席。
会议上，邵涛老师获得了2018 IEEE William DunbarAward，以感谢其在高电压技术及快脉冲击穿领域所做的贡献。邵涛做了题为“Nanosecond-pulse Discharges: Mechanism, Characteristics and Applications in IEE CAS”的大会邀请报告及题为“Plasma Surface Modification for High Voltage Insulation Improvement”的分会报告，任成燕做了题为 “Trap distribution of aging polymeric materials and its effect on surface flashover in vacuum”和“The Spatial-temporal Evolution and Interaction of 3-D Multiple Pulsed Plasma Jets”的口头报告。此外还做了题为 “Temporal-spatial Diagnosis of Pulsed Plasma Jet Array Interaction: The Effect of Input Gas and Jet Spacing”和“Measurement and analysis of luminescence signal and emission spectrum in vacuum surface flashover for polymeric materials”的墙报。
美国杰克逊之行收益良多，使我们对国际脉冲功率调制及高电压领域的最新发展有了全面了解，加强了我们与国际同行的交流，促使我们以后更加努力地投身科研工作，也提高了我所知名度，进一步扩大了我所在该领域的国际影响力。
IEEE IPMHVC2020会议将在2020年6月于美国田纳西州的诺克斯维尔（Knoxville）召开。
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