电子束曝光技术研究组::中国科学院电工研究所机械工业北京电工技术经济研究所

实验室结构

科研项目

科研设备

学术交流

　双束系统刻蚀图片之　　　　　　　　　　　　双束系统刻蚀图片之
　会徽　　　　　　　　　　　　　　　　　地图-线径39nm

近日，我组利用电子束曝光技术方面积累的经验，与北京航空航天大学合作完成了我国第一台实用化电子束（SEM）、离子束(FIB)双束系统的集成工作。

离子束技术是微纳加工方面的重要科学手段，SEM/FIB双束设备可以充分发挥了聚焦离子束和电子束的长处，在高分辨率SEM像的监控下进行FIB的微细加工，与图形发生器配套使用可制备纳米级图形。该装置主要用于纳米器件制作和研究、材料科学和生命科学等研究领域。

中国科学院电工研究所和北京航空航天大学合作，开展了双束系统集成的研究工作，在引进电子枪和离子枪基础上的方法完成了我国首个实用化双束系统的集成工作。目前，项目进展顺利，系统已经在北京航空航天大学物理系进行基础研究工作。

0.44264912605286