实验室结构
·电子束曝光技术研究组实…
·电子束曝光技术研究组实…
·电子束曝光技术研究组实…
科研项目
·现有科研项目列表
科研设备
·DY-2000型纳米通用图形发…
·DY-2000型纳米通用图形发…
·DY-2000型纳米通用图形发…
·从JEOL公司引进的JBX-6A…
学术交流
·学术报告
·国际学术交流会议
相关链接
 研究组简介

电子束缩小投影曝光技术组-实验室简介
  日期:2006-11-29     【背景色 杏仁黄 秋叶褐 胭脂红 芥末绿 天蓝 雪青 灰 银河白(默认色) 】  【字体:
 

   中国科学院电工研究所微纳加工实验室主要从事微米、纳米尺度下加工技术的研究,发展具有自主知识产权的专有技术,为我国微细加工设备的研究开发提供战略性技术储备。同时探索微纳米加工技术在微机电系统和生命科学仪器中的应用。主要研究方向有:纳米级电子束曝光机、微机电系统、DNA生命科学仪器和扫描探针显微技术。

微纳加工实验室中的电子束曝光技术组是国家专门从事电子束曝光技术和专用设备研制的课题组。该课题组自70年代末开始研究电子束曝光技术,研制成功了国际上微电子专业设备发展中最重要的四类电子束曝光机。“六五”“七五”期间研制成功了我国第一台微米级可变矩形电子束曝光机。“八五”期间实现了微米级可变矩形电子束曝光机在微电子生产线上的实用化。“九五”期间研制成功我国第一台0.1um电子束曝光实验样机,该样机能够制作的最细线宽为。1999年课题组承担了“缩小电子束投影曝光系统”的项目,经过两年多的不断努力课题组完成了缩小电子束曝光系统的研制工作,该系统是国际上的第三套同类型的装置(另外两套分别由IBMBELL实验室完成的)。
  课题组在长期的工作中成果显着,分别得到曾获中科院科技进步二等奖两项,三等奖一项和成果奖多项。

 
0.40102005004883